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供应高纯三氧化二铝靶

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    磁控溅射靶材



(可为电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材)



高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶,铬靶,铜靶,镍靶,硅靶,锗靶,铌靶材,钛钯,铟靶,银靶,锡靶,石墨靶,钽靶,钼靶,金靶,铪靶,锰靶,锆靶,镁靶,锌靶,铅靶,铱靶,钇靶,铈靶,镧靶,镱靶,钆靶,铂靶等高纯单质金属溅射靶材。



高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶,AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶,氧化钇靶,氧化铁靶材,,氧化镍靶,氧化铬靶,氧化锌靶,硫化锌靶,硫化镉靶材,硫化钼靶,二氧化硅靶,一氧化硅靶,二氧化锆靶,五氧化二铌靶,二氧化钛靶,二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽靶,氟化镁靶,硒化锌靶,氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶材,铌酸锂靶,钛酸镨靶材,钛酸钡靶,钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.



备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界*先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。



高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶,镍铬合金靶,钛铝合金靶,硅铝合金靶,铜铟合金靶,铜镓合金靶,铜铟镓合金靶,铜铟镓硒靶,不锈钢靶,锌铝合金靶,钨钛靶,,铁钴靶,白铜靶等高纯合金溅射靶材。



备注:CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

 
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